PICTOS
Mahdollistaa in-line, at-line ja off-line -mittauksetTekniikka perustuu QICPIC-dynaamiseen kuva-analyysiinIntegroituu suoraan tuotantoprosesseihin ja näytteenottoonTukee sekä kuiva- että nestedispersiotaMahdollistaa reaaliaikaisen prosessiseurannan ja QC/PAT-käytönAutomaattinen tiedonsiirto prosessinohjaukseenSoveltuu jauheille, suspensioille ja emulsioilleVähentää tarvetta erillisille laboratoriomittauksille
PICTOS on Sympatecin prosessiin integroitu ratkaisu dynaamiseen kuva-analyysiin, joka tuo QICPIC-teknologiaan perustuvan partikkelien koko- ja muotoanalyysin suoraan tuotantoympäristöön. Se mahdollistaa mittaukset in-line-, at-line- ja off-line-käytössä ilman erillistä laboratoriovaihetta.
PICTOS tuo dynaamisen, kuvantavan partikkelianalyysin lähemmäs tuotantoa mahdollistaen jatkuvan näkymän prosessin käyttäytymiseen. Tämä parantaa laadunhallintaa, nopeuttaa päätöksentekoa ja vähentää viivettä mittauksen ja prosessiohjauksen välillä.
Järjestelmä voidaan räätälöidä eri teollisuusympäristöihin ja se toimii joustavasti erilaisten näytevirtojen ja prosessiolosuhteiden kanssa. Kokonaisuus tukee tehokasta laadunvarmistusta ja prosessin optimointia suoraan tuotantotasolla.
Ratkaisu tuo merkittäviä hyötyjä erityisesti prosessiteollisuudessa:
- Parantaa laadunhallintaa (QC) reaaliaikaisen datan avulla
- Tukee PAT (Process Analytical Technology) -lähestymistapaa
- Mahdollistaa nopeamman reagoinnin prosessimuutoksiin
- Vähentää manuaalisten laboratorioanalyysien tarvetta
- Lisää prosessin toistettavuutta ja hallittavuutta
- Tehostaa tuotannon optimointia ja resurssien käyttöä
Järjestelmä voidaan räätälöidä eri teollisuusympäristöihin ja se toimii joustavasti erilaisten näytevirtojen ja prosessiolosuhteiden kanssa. Laitteistossa hyödynnetään samaa tekniikkaa, kuin laboratorioihin suunnitellussa QICPIC -laitteistossa.
PICTOS on-line -mittaus mahdollistaa partikkelikokojakauman analysoinnin automaattisesti prosessista otetusta näytteestä ilman jatkuvaa mittapäätä tuotantovirrassa.
Näyte johdetaan hallitusti erilliseen mittausyksikköön, jossa se analysoidaan optimaalisissa olosuhteissa dynaamiseen kuva-analyysiin perustuen.
Keskeiset ominaisuudet:
- Automaattinen näytteenotto suoraan prosessivirrasta
- Mittaus erillisessä kontrolloidussa mittausyksikössä
- Soveltuu sekä kuiville että nestemäisille materiaaleille järjestelmäkonfiguraatiosta riippuen
- Ei jatkuvaa mittapäätä prosessissa, vaan toistettava näyteanalyysi
- Hyvä tasapaino prosessiseurannan ja mittauskontrollin välillä
PICTOS on-line mahdollistaa luotettavan ja toistettavan partikkelijakauman seurannan tuotantoympäristössä, jossa halutaan yhdistää automaatio ja hallittu mittaus.
Lisätietoja täältä.
PICTOS at-line –mittaus mahdollistaa partikkelikokojakauman analysoinnin prosessista otetusta näytteestä tuotantolinjan läheisyydessä ilman viivettä laboratoriomittauksiin verrattuna.
Näyte otetaan prosessista ja analysoidaan hallitussa mittauspisteessä dynaamiseen kuva-analyysiin perustuen, mikä yhdistää nopeuden ja kontrolloidun mittausympäristön.
Keskeiset ominaisuudet:
- Näyte otetaan prosessista ja mitataan tuotantoympäristössä
- Nopea analyysi ilman laboratorioon lähettämistä
- Hallittu ja toistettava mittausympäristö
- Soveltuu sekä kuiva- että nesteanalyyseihin järjestelmäkokoonpanosta riippuen
- Erinomainen rutiinivalvontaan ja prosessin säätöön
PICTOS at-line tarjoaa nopean ja luotettavan palautteen prosessista lähellä tuotantoa, mikä mahdollistaa tehokkaan laadunvalvonnan ja nopean reagoinnin prosessimuutoksiin.
Lisätietoja täältä.
PICTOS off-line -mittaus mahdollistaa partikkelikokojakauman analysoinnin erillisessä laboratoriomittauksessa prosessin ulkopuolella, kun tarvitaan maksimaalista kontrollia ja tarkkuutta.
Näytteet kerätään tuotantoprosessista ja analysoidaan hallituissa laboratorio-olosuhteissa dynaamiseen kuva-analyysiin perustuen, mikä varmistaa erittäin toistettavat ja vertailukelpoiset tulokset.
Keskeiset ominaisuudet:
- Näytteet otetaan erikseen prosessista ja analysoidaan laboratoriossa
- Ei integraatiota suoraan tuotantolinjaan
- Korkein kontrolli mittausolosuhteisiin ja näytteen käsittelyyn
- Soveltuu sekä kuiva- että nesteanalyyseihin järjestelmäkokoonpanosta riippuen
- Erinomainen validointiin, tutkimukseen ja laadunvarmistukseen
PICTOS off-line toimii luotettavana referenssimittauksena, jota voidaan hyödyntää prosessimittausten vertailuun, kalibrointiin ja laadunvarmistukseen.
Lisätietoja täältä.
